文/北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 柳虹
摘要：在實(shí)際撰寫過程中，如存在引用的權(quán)利要求不包括引用對象的情況，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進(jìn)行限定時(shí)是否清楚，是否影響該多項(xiàng)從屬權(quán)利要求或同類獨(dú)立權(quán)利要求所描述的方案的完整性，在引用對象足夠清楚不影響方案完整性的情況下直接刪除“所述”即可，在引用對象不清楚影響方案完整性的情況下需要補(bǔ)充相關(guān)限定內(nèi)容，或者放棄引用不包含引用對象的權(quán)利要求，從而克服權(quán)利要求缺乏引用基礎(chǔ)的問題。
根據(jù)專利法第二十六條第四款規(guī)定，權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。根據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則第二十五條的規(guī)定，引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求，只能以擇一方式引用在前的權(quán)利要求，并不得作為另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求的基礎(chǔ)。
在實(shí)際撰寫過程中，多項(xiàng)從屬權(quán)利要求中的引用對象可能并不存在于其所引用的全部權(quán)利要求中，容易造成該多項(xiàng)從屬權(quán)利要求存在缺乏引用基礎(chǔ)的問題，進(jìn)而存在保護(hù)范圍不清楚的問題。舉例來說，權(quán)利要求1記載了第一位置信息，權(quán)利要求2引用權(quán)利要求1且記載了第二位置信息，權(quán)利要求3引用權(quán)利要求1或權(quán)利要求2時(shí)，若記載“所述第一位置信息和所述第二位置信息”，則當(dāng)其引用權(quán)利要求1時(shí)，“所述第二位置信息”缺乏引用基礎(chǔ)，導(dǎo)致權(quán)利要求不清楚。
這類問題在同類獨(dú)立權(quán)利要求之間的引用時(shí)同樣存在，針對這種情況，在撰寫過程中如何進(jìn)行規(guī)避，以及在審查階段如何通過修改來克服這種問題，可以分情況進(jìn)行針對性修改。實(shí)踐中，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進(jìn)行限定時(shí)是否清楚，是否影響該多項(xiàng)從屬權(quán)利要求或同類獨(dú)立權(quán)利要求所描述的方案的完整性。
下面結(jié)合具體案例進(jìn)行詳細(xì)說明。
案例1：
1、一種等離子反應(yīng)器，其特征在于，包括：
基座，用于支撐被處理基片；……
2、一種等離子反應(yīng)器，其特征在于，包括：
下電極，用于支撐被處理基片；……
3、一種使用權(quán)利要求1或2的等離子反應(yīng)器進(jìn)行刻蝕的方法，其特征在于，包括：
放置待處理基片到所述基座或所述下電極上；……
以上的獨(dú)立權(quán)利要求3，引用了權(quán)利要求1或2，涉及權(quán)利要求1中的“基座”和權(quán)利要求2中的“下電極”，然而在引用權(quán)利要求1時(shí)“所述下電極”缺乏應(yīng)用基礎(chǔ)，在引用權(quán)利要求2時(shí)“所述基座”缺乏引用基礎(chǔ)。
針對以上問題，經(jīng)過調(diào)研可知，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，通常下電極包括基座以及其他部件，基座和下電極用于支撐被處理基片，是公知常識。因此，即使不對基座和下電極的功能進(jìn)行限定，本領(lǐng)域技術(shù)人員也能知曉基座和下電極的作用和關(guān)系，其含義相對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是清楚的，不影響權(quán)利要求3中方案的完整性。因此可以直接刪除“所述基座或所述下電極”中的兩個(gè)“所述”，克服權(quán)利要求3缺乏引用基礎(chǔ)的問題，使修改后的權(quán)利要求3清楚。
案例2：
1、一種檢測方法，其特征在于，
利用檢測設(shè)備對第一特征點(diǎn)進(jìn)行檢測得到第一位置信息；
利用所述檢測設(shè)備對第二特征點(diǎn)進(jìn)行檢測得到第二位置信息；所述第一特征點(diǎn)和所述第二特征點(diǎn)之間具有預(yù)設(shè)距離；
根據(jù)所述第一位置信息、所述第二位置信息和所述預(yù)設(shè)距離，確定所述檢測設(shè)備的實(shí)際位置和基準(zhǔn)位置之間的相對位移。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一位置信息包括所述第一特征點(diǎn)沿第一方向的第一位置分量，以及沿第二方向的第二位置分量；所述第二位置信息包括所述第二特征點(diǎn)沿第一方向的第三位置分量，以及沿第二方向的第四位置分量。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，所述根據(jù)所述第一位置信息、所述第二位置信息和所述預(yù)設(shè)距離，確定所述檢測設(shè)備的實(shí)際位置和基準(zhǔn)位置之間的位移，包括：
建立所述第一位置信息、所述第二位置信息、所述相對位移與所述預(yù)設(shè)距離之間的關(guān)系等式；
根據(jù)所述關(guān)系等式獲取所述相對位移。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，所述建立所述第一位置信息、所述第二位置信息、所述相對位移與所述預(yù)設(shè)距離之間的關(guān)系等式，包括：
根據(jù)所述第一位置分量和所述第三位置分量，確定所述第一特征點(diǎn)和所述第二特征點(diǎn)沿所述第一方向的第一距離分量；
根據(jù)所述第二位置分量和所述第四位置分量，確定所述第一特征點(diǎn)和所述第二特征點(diǎn)沿所述第二方向的第二距離分量；
利用所述第一距離分量、所述第二距離分量、所述預(yù)設(shè)距離和所述第一方向和所述第二方向之間的夾角，建立關(guān)系等式。
……
以上的權(quán)利要求3引用多項(xiàng)權(quán)利要求，權(quán)利要求4引用權(quán)利要求3，相當(dāng)于也是引用多項(xiàng)權(quán)利要求，在權(quán)利要求3引用權(quán)利要求1時(shí)，權(quán)利要求4中出現(xiàn)“所述第一位置分量”、“所述第二位置分量”、“所述第三位置分量”和“所述第四位置分量”缺乏引用基礎(chǔ)的問題。這幾個(gè)分量根據(jù)具體方案相關(guān)，在未經(jīng)限定時(shí)，本領(lǐng)域技術(shù)人員不能得出其實(shí)際含義，導(dǎo)致權(quán)利要求4的方案整體的完整性受到影響，因此簡單將“所述”刪除，還是存在各個(gè)位置分量不清楚的問題，因此需要從實(shí)際方案出發(fā)對其進(jìn)行修改。
筆者有如下兩種修改方式供參考：
第一種，在權(quán)利要求4中補(bǔ)充各個(gè)位置分量的限定：將“所述第一位置分量”修改為“所述第一位置信息沿第一方向的第一位置分量”，將“所述第二位置分量”修改為“所述第二位置信息沿第二方向的第二位置分量”，以此類推。這種修改方式使修改后的權(quán)利要求4和權(quán)利要求2存在重復(fù)內(nèi)容，顯得冗余，在權(quán)利要求3引用更多項(xiàng)時(shí)可能要增加非常多的內(nèi)容，但是能夠同時(shí)保留權(quán)利要求1+3+4和1+2+3+4對應(yīng)的范圍。
第二種，將權(quán)利要求3的引用基礎(chǔ)從權(quán)利要求1或2調(diào)整為權(quán)利要求2，這樣舍棄了權(quán)利要求1+3+4對應(yīng)的范圍，僅保留權(quán)利要求1+2+3+4對應(yīng)的范圍，同樣可以克服權(quán)利要求4缺乏引用基礎(chǔ)的問題。
以上兩種修改方式可以根據(jù)實(shí)際情況選擇使用，綜合考慮保護(hù)范圍，以及重復(fù)內(nèi)容的體量和重要程度，選擇合適的修改方式。以上示例的引用邏輯相對簡單，在面對更為復(fù)雜的引用邏輯時(shí)，同樣可以遵循以上原則進(jìn)行應(yīng)對。
綜上所述，在實(shí)際撰寫過程中，如存在引用的權(quán)利要求不包括引用對象的情況，可以具體分析該引用對象的含義在不對其進(jìn)行限定時(shí)是否清楚，是否影響該多項(xiàng)從屬權(quán)利要求或同類獨(dú)立權(quán)利要求所描述的方案的完整性，在引用對象足夠清楚不影響方案完整性的情況下直接刪除“所述”即可，在引用對象不清楚影響方案完整性的情況下需要補(bǔ)充相關(guān)限定內(nèi)容，或者放棄引用不包含引用對象的權(quán)利要求，從而克服權(quán)利要求缺乏引用基礎(chǔ)的問題。
以上是筆者在進(jìn)行權(quán)利要求撰寫的過程中的總結(jié)思考，其中若有不妥之處，還請讀者批評指教。